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產(chǎn)品型號：
更新時(shí)間：2025-11-20簡要描述：本產(chǎn)品專為半導(dǎo)體、鋰電池、顯示面板等制造業(yè)設(shè)計(jì)的高純度電子化學(xué)品。通過獨(dú)特的單次過濾純化工藝，能將工業(yè)級（G3）NMP 原液提純至準(zhǔn) G5（半導(dǎo)體級）水平，有效去除金屬顆粒、離子殘留及微小顆粒物，滿足對潔凈度有苛刻要求的精密工藝應(yīng)用。
核心性能優(yōu)勢
1. 超高金屬純度：關(guān)鍵金屬雜質(zhì)含量降至 ppt 級別，滿足半導(dǎo)體工藝對金屬污染物的極限要求。
2. 優(yōu)異的顆?？刂?/span>：過濾后，≥0.5μm 的顆粒物數(shù)量降至個(gè)位數(shù)水平，遠(yuǎn)優(yōu)于原液狀態(tài)。
3. 穩(wěn)定的水分控制：水分含量穩(wěn)定在約 180ppm，與原液保持一致，避免因吸水引入額外風(fēng)險(xiǎn)。
4. 高效的純化工藝：通過單次過濾即可實(shí)現(xiàn)從 G3 到準(zhǔn) G5 的能級躍升，工藝簡潔高效。
主要應(yīng)用領(lǐng)域
• 半導(dǎo)體制造：用于光刻膠剝離、晶圓清洗等工序。
• 鋰電池行業(yè)：作為負(fù)極材料（如 SBR 粘結(jié)劑）的高純度溶劑，用于電極漿料制備。
• 顯示面板：用于聚酰亞胺（PI）漿料的稀釋和涂布。
• 其他精密電子：任何要求超低金屬雜質(zhì)和顆粒污染的制造領(lǐng)域。
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